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产品中心Product专业从事材料、半导体、电子、信息技术、机电等高科技领域
光刻胶 光刻配套试剂 靶材 键合晶圆材料
光刻胶 电子束光刻胶
MicroChem / Nippon Kayaku - 光刻胶
适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化避免使用干法刻蚀工艺
Dupont集团光刻胶
适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化避免使用干法刻蚀工艺
Merck集团光刻胶
适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化避免使用干法刻蚀工艺
SU-8 3000系列
进口Microchem SU-8光刻胶系列，克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。
SU-8 2000系列
进口SU-8光刻胶系列，克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（360nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有侧壁和高深宽比的厚膜图形。
紫外光刻胶（Photoresist）
光刻胶性能优异，种类繁多，满足不同工艺的多样性要求 • 包装规格灵活多样 (30ml, 100ml, 250ml, 500ml, 1L, 2.5L 等 )，适合多种规模的科研 / 生产需求
AZ 光刻胶选型系列
光刻胶性能优异，种类繁多，满足不同工艺的多样性要求
特殊工艺用光刻胶
光刻胶性能优异，种类繁多，满足不同工艺的多样性要求
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