电子束光刻胶

电子束光刻胶-SU-8 GM1010/HSQ/XR-1541-002/004/006/HSQ Fox-15/16/PMMA系列

TOK集团光刻胶配套试剂

适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化避免使用干法刻蚀工艺

MicroChem / Nippon Kayaku - 光刻胶

适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化避免使用干法刻蚀工艺

金属靶材

​溅射靶材是一种通过溅射法生成薄膜的材料，由金属及陶瓷加工制造而成。

无机化合物靶材

​溅射靶材是一种通过溅射法生成薄膜的材料，由金属及陶瓷加工制造而成。

复合靶材

​溅射靶材是一种通过溅射法生成薄膜的材料，由金属及陶瓷加工制造而成。

Ir-Mn靶材

Ir-Mn最大的特点在于它的非挥发性以及可进行无限的重写, 是一种被用作为反铁磁层的非易失性磁性存储器(MRAM)。我们确立了熔融制靶材的生产方法并对其实现了低氧化。

PZT 靶材

我们可以供应缺氧较少且高结晶度的产品。

Dupont集团光刻胶

适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化避免使用干法刻蚀工艺

Merck集团光刻胶

适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化避免使用干法刻蚀工艺

SU-8 3000系列

进口Microchem SU-8光刻胶系列，克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。

SU-8 2000系列

进口SU-8光刻胶系列，克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（360nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有侧壁和高深宽比的厚膜图形。